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真空镀膜:“史记”二三事
真空镀膜:“史记”二三事

在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

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对比氧化铟锡(ITO)导电薄膜与银纳米线(SNW)
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目前光电显示触摸屏行业中透明导体主要使用氧化铟锡(ito);铟被归为稀土金属,主要储量位于中国。ito对各种电子设备的普及作出了很大贡献,特别是电子显示器和太阳能电池。要制造透明导体,需要在真空腔中使用汽相沉积工艺将ito溅镀到目标…

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